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镓和半导体首次公布4英寸单晶衬底的性能参数。
发布时间：
2024-10-15
镓和半导体公司在“第四届海峡两岸氧化镓及相关材料与器件研讨会”上首次发布了4英寸（100）晶面氧化镓单晶衬底的性能参数。
2023年10月12日至15日，以“涵养品格、铸就镓业、开创未来”为主题的“第四届海峡两岸氧化镓及相关材料与器件研讨会”在济南成功举办。会议汇聚了来自海峡两岸及香港的500余名代表，涵盖氧化镓材料与器件领域的专家学者、创新企业及投资机构。与会代表通过大会报告、墙报展示和专题讨论等形式，交流了氧化镓领域的最新进展，并深入探讨了氧化镓半导体产业面临的机遇、挑战与发展路径。
研讨会现场全面展示了氧化镓样品，包括2英寸（100）、（001）和（-201）等不同晶面的单晶衬底，以及UID掺杂和Sn掺杂衬底，并首次亮相4英寸100晶面单晶衬底。这些样品以系统化的方式呈现，供与会者观摩体验。展位吸引了众多参会代表前来咨询、交流与洽谈合作，充分彰显了氧化镓及其半导体产品的领先优势。公司及产品在相关产业链的专家学者和业内人士中引发了广泛关注。 在开幕式晚宴上，镓和半导体正式宣布：在国内率先发布了4英寸（100晶面）氧化镓单晶衬底的技术参数，并已实现小批量生产。同时，公司还宣布已全面具备“多规格氧化镓单晶产品、多规格氧化镓外延产品、多用途氧化镓专用设备，以及定制化样品与技术服务”的综合供应能力。这一成果标志着国内氧化镓产业迈出了具有里程碑意义的一步！
“一代材料、一代技术、一代产业”，“镓和半导体引领第四代芯片创新”。镓和半导体团队将紧扣“涵养品格、铸就镓芯、开创未来”的大会主题，以推动第四代超宽禁带氧化镓半导体产业发展为己任。秉持“战略性、紧迫性、独特性、开拓性、引领性”的产业化推进思路，团队将自主突破封锁、勇于创新、勇立潮头，为第四代半导体产业链的稳健发展与生态体系的丰富完善作出积极探索和应有贡献。
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